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  近十年來(lái)，研究人員利用PVD（包括磁控濺射、離子束濺射、射頻放電離子鍍、等離子鍍、EB-PVD等）制備納米單層薄膜和納米多層薄膜，并取得了納米Ti(N, C, CN), (V, Al, Ti, Nb, Cr) N, SiC,,, TiN/CrN, TiN/A1N, WC-Co涂層可用于耐磨飛機軸部件的耐腐蝕性；等離子噴涂納米涂層已用于密封航空發(fā)動(dòng)機的氣路；納米涂層已用于渦輪葉片的隔熱保護；添加石墨烯和碳納米管復合涂層具有雷達隱身功能。當我們采用常壓等離子噴涂技術(shù)在純鈦基板上制備硅化硅涂層時(shí)，與傳統的制造工藝相比，常壓等離子噴涂具有省時(shí)、大面積制造的優(yōu)勢。
  但碳化硅在高溫下容易自行分解，使鍍層的厚度和強度不高。因此，提出了三種方法來(lái)解決這個(gè)問(wèn)題。**種是“溶膠-凝膠法”，它以“四乙氧基硅烷，TEOS”為前驅體，先在碳化硅粉末外層生長(cháng)二氧化硅保護層，然后加熱噴涂；第二種方法是采用溶膠-凝膠法，但加入“十二烷基硫酸鈉，SD”作為表面活性劑，使二氧化硅層生長(cháng)得更致密；三是添加氧化鋁，調節碳化硅與氧化鋁的比例。

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  然而，熱噴涂有兩種工藝制程，分別為「等離子噴涂」與「電弧噴涂」，其應用也不太相同，以等離子噴涂而言，所噴涂的材料為氧化鋁和氧化釔涂層，主要用來(lái)抵抗等離子的轟擊造成腔體的損壞。 
  另外一種電弧式噴涂的工藝則是噴涂純鋁線(xiàn)，使腔體內部表面具有高粗糙度，經(jīng)過(guò)尖端放電的效果來(lái)捕捉腔體內部的帶電粒子，防止這些粒子影響良率。在航天產(chǎn)業(yè)中常見(jiàn)的涂層有抗高溫的熱障涂層、可磨耗涂層、耐高溫金屬涂層（T400、T800）、耐磨耗涂層等。其中，熱障涂層主要由兩個(gè)涂層組合而成，分別為「鍵結層，bond coating」和「頂層，top coating」，而這兩種涂層所使用的熱噴涂工藝也不相同。 以鍵結層而言，目前常見(jiàn)的工藝有「低壓等離子噴涂，low pressure plasma spraying, LPPS」、「高壓高速火焰，high velocity oxygen fuel, HVOF、HVAF」。 
  在鍵結層中所使用的材料為 MCrAlY（M= Ni、Co、NiCo、CoNi），與頂層材料有良好的親和性。 在頂層的工藝中目前主流為使用「大氣等離子噴涂，atmosphere plasma spraying, APS」，近幾年有相當多的國內外科研單位與制造商，使用大氣等離子漿料等離子漿噴涂來(lái)進(jìn)行頂層的制作。 頂層所使用的材料為氧化釔安定氧化鋯（8YSZ），該材料的特色為低熱傳導系數且相較于其他的絕熱材料價(jià)格相對便宜，這些涂層應用在各級的動(dòng)葉、靜葉、動(dòng)葉環(huán)、燃燒桶、密封環(huán)、飛機起落架等各式應用。所以，我們比較建議以 PEO 法取代等離子噴涂法，因為 PEO 膜層是借由對象本身的原子鍵結所形成的，所以附著(zhù)力特別強，比一般外部涂裝方法（如：等離子噴涂）強太多了。 另外，PEO 處理后的鋁件比一般硬化、熱處理、鍍鉻、陽(yáng)極、陶瓷噴著(zhù)或氮化處理更經(jīng)久耐用，更少有腐蝕現象發(fā)生。

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